Simultaneous Formation of Titanium Nitride and Titanium Silicide in a One-step Process in Heterogeneous Phase During Multipulse Laser Treatment of a Si Wafer with a Thin Ti Coating in Superatmospheric N2.

Anno

1994

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Articolo pubblicato su Rivista

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11587/301091

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