Excimer Laser Reactive Ablation: An Efficient Approach for the Deposition of High Quality TiN Films.

MIHAILESCU I., N; Chitica, N; TEODORESCU V., S; Leggieri, Gilberto; Luches, A; Martino, M; Perrone, Alessio; Dubreuil, B.

doi:10.1116/1.578609

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Excimer Laser Reactive Ablation: An Efficient Approach for the Deposition of High Quality TiN Films. / MIHAILESCU I.N; CHITICA N; TEODORESCU V.S; DE GIORGI M.L; G. LEGGIERI; LUCHES A; MARTINO M; PERRONE A; DUBREUIL B. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A. VACUUM, SURFACES, AND FILMS. - ISSN 0734-2101. - STAMPA. - 11(1993), pp. 2577-2582.

Titolo:	Excimer Laser Reactive Ablation: An Efficient Approach for the Deposition of High Quality TiN Films.
Autori:	MIHAILESCU I. N CHITICA N TEODORESCU V. S LEGGIERI, Gilberto LUCHES A MARTINO M PERRONE, Alessio DUBREUIL B. mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	1993
Rivista:	JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A. VACUUM, SURFACES, AND FILMS
Handle:	http://hdl.handle.net/11587/111517
Appare nelle tipologie:	Articolo pubblicato su Rivista

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